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沃森SINOVAC工業(yè)無(wú)塵室吸塵系統
 

針對無(wú)塵室潔凈半導體配件的真空吸塵裝置，需要滿(mǎn)足超高潔凈度、防靜電、無(wú)金屬污染、低振動(dòng)等嚴苛要求。以下是關(guān)鍵設計要點(diǎn)和推薦方案：

核心要求
無(wú)顆粒釋放

過(guò)濾系統需達到 ULPA U15級（99.9995% @ 0.12μm） 或更高。

材質(zhì)需用316L不銹鋼或氟聚合物涂層，避免金屬離子污染。

防靜電設計

吸頭、管道采用碳纖維填充聚合物或抗靜電PVDF。

接地電阻需 <10⁹ Ω，防止靜電損傷敏感元件。

化學(xué)兼容性

接觸化學(xué)溶劑的部件需耐受IPA、丙酮等常用清洗劑。

低振動(dòng)與低噪音

電機需磁懸浮技術(shù)或隔振設計，振動(dòng)幅度 <5μm。

推薦裝置配置
組件 技術(shù)方案 
主機 無(wú)油渦旋真空泵 + HEPA預過(guò)濾 + ULPA主過(guò)濾 
吸頭 抗靜電PTFE吸嘴 + 軟毛刷（可更換）
管道 導電硅膠軟管（內嵌不銹鋼螺旋接地） 
過(guò)濾系統 三級過(guò)濾：G4初效 + H14 HEPA + U15
控制單元 變頻調速 + 壓差傳感器（自動(dòng)報警） 
操作規范
使用前驗證

用 0.1μm 激光粒子計數器 檢測排氣潔凈度（ISO Class 1標準）。

吸塵流程

吸頭與配件保持 5-10mm距離，避免機械接觸損傷表面。

采用單向線(xiàn)性移動(dòng)（禁止來(lái)回摩擦）。

維護周期

ULPA濾芯每 500小時(shí)或壓差>200Pa 強制更換。

每周用超純水+IPA擦拭吸頭內壁。

特殊場(chǎng)景解決方案
納米級顆�？刂疲涸黾� 離子化噴嘴（如 Simco-Ion JetCharge），中和表面電荷防止顆粒吸附。

晶圓背面清潔：使用 非接觸式文丘里吸頭（真空間隙控制精度±0.1mm）。

在線(xiàn)監測：集成 APC（先進(jìn)過(guò)程控制）系統，實(shí)時(shí)反饋顆粒數量至MES
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